6月9日，化合物半導體工藝設備企業Veeco宣布，其新一代LUMINA+金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）設備已獲得富采控股的商業驗收與生產資格認證，以滿足砷化磷（As/P）大規模量產需求。

據Veeco官方披露，富采自2025年底起便在中國台灣地區工廠啟動LUMINA+系統的評估驗證工作，整個認證周期進展迅速，展現出該設備在工藝穩定性與產能擴展性方面的突出優勢。

目前，該系統已正式通過生產資格認證，將投入富采到高端光電器件的大規模量產線。據悉，LUMINA+配備了業界最大容量的反應腔體，結合高吞吐量的設計，能夠在滿足客戶嚴苛性能指標的同時，顯著提升工藝效率與生產成本效益。

Veeco MOCVD產品線管理副總裁Anil Vijayendran對此表示，LUMINA+被視為快速增長的砷化磷市場的變革性產品，LUMINA+系統所兼具的規模與精度，契合化合物半導體產業對高性能、低成本光電器件規模化制造的路線圖需求，將在未來助力消費電子、汽車、光通信及生物傳感等領域的創新。獲得富采的驗證，不僅確立了Veeco在先進光電器件領域的領先地位，也體現了公司將成熟的TurboDisc技術與突破性生產力相結合的戰略方向。

據悉，TurboDisc是Veeco Instruments公司旗下MOCVD設備的核心技術平台。從技術特性來看，TurboDisc平台以高產能、高設備稼動率和低維護需求見長。

其反應腔設計能夠在例行維護後迅速恢覆生產，大幅壓縮停機時間。與此同時，該技術通常與Veeco自研的Uniform FlowFlange氣流均布技術協同工作，可在晶圓表面形成高度均勻的氣流場，從而保證外延薄膜的厚度均勻性與工藝重覆性達到優異水準，並有效控制顆粒污染。

在材料覆蓋範圍上，TurboDisc平台展現出廣泛的適應性。TurboDisc既支持氮化鎵基材料體系，服務於藍綠光LED、功率器件以及Micro LED等應用；也兼容砷化磷基材料體系，適用於紅光LED、激光器、VCSEL及太陽能電池等光電器件的外延生長。這種跨材料平台的能力，使其成為化合物半導體制造中兼具通用性與專業性的關鍵裝備技術。

因此，TurboDisc技術貫穿了Veeco所有MOCVD產品線的演進歷程，從早期的K300、K465系列，到當前面向砷化磷市場的LUMINA+系統，均建立在這一底層架構之上。（LEDinside整理）

TrendForce 2026 Micro LED 顯示與非顯示應用市場分析
出刊時間: 2026 年 09 月 30 日
檔案格式: PDF
報告語系: 繁體中文 /英文