首頁> 分析評論> 正文

LEDinside「Micro LED前瞻技術」優選文章 –QMAT改良基板提升Micro LED製程效率

2018-11-16 17: 16

LEDinside在Micro LED前瞻技術論文徵集比賽中,各家廠商跟學者都針對Micro LED技術發展的不同面向提出解決方法。除了巨量轉移與全彩化的技術外,Micro LED的背板也是技術突破的重要關鍵。

獲得優選的美國新創公司QMAT,便聚焦於Micro LED的基板技術。其獲選論文Engineered Substrates for High Efficiency Micro LEDs and Commercialized High Volume Manufacturing Production指出其EpiMax基板製造技術,能有效率提升Micro LED的製作效率,減少有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition)的作用時間,並強化Micro LED的製造品質及效率,加速商業化進程。


(論文作者: Philip Ong, QMAT)


(論文作者:Dong Lee, QMAT)

QMAT的論文強調,使用氮化鎵GaN作為MOCVD的基礎層,能夠強化設備的作用效率,並減少電流密度操作點的變異性。此外,QMAT的層次轉移技術,能將目標基板設計成跟磊晶片轉移前的基板一樣,因此磊晶片能夠被充分利用。


(來源: QMAT)

QMAT基板技術的優勢在於能夠強化設備性能,降低基板成本,還能減少MOCVD作用時間。同時,基板本身可以直接做為轉移底座,並且整合雷射剝離技術層(Laser-Lift-Off)進行後續切除。

針對QMAT所提出的基板技術,交通大學光電研究所的評審認為,QMAT的EpiMax基板能夠直接用於測試跟轉印的設計,在Micro LED製程上相當具有優勢。而工研院CIMS聯盟則認為,QMAT的基板能用於雷射剝離技術,降低LED晶粒的缺陷,有助於後續製程。

全文請見:Engineered Substrates for High Efficiency Micro LEDs and Commercialized High Volume Manufacturing Production

相關文章:
LEDinside「Micro LED前瞻技術」優選文章 – 以量子點為基礎的Micro LED螢幕全彩技術
LEDinside「Micro LED前瞻技術」優選文章 – 無需巨量轉移之Micro LED量產技術
 

推薦文章